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    Ein System zum Erfassen (S302) eines ersten Bildes eines Strahlungsfeldes, wobei das Strahlungsfeld von einem Strahlungsstrahl erzeugt wird; und zum Bestimmen (S303) eines zweiten Bildes, basierend auf dem ersten Bild und basierend auf einem Referenzbild eines Referenzstrahlungsfeldes, das im wesentlichen eine homogene Intensität aufweist, wobei das zweite Bild Eigenschaften des Strahlungsstrahls repräsentiert. Einige Ausführungsbeispiele liefern eine Erfassung (S801) eines ersten Profils, das mit einem Strahlungsstrahl in Zusammenhang steht, indem eine Strahlungsdetektionsvorrichtung verwendet wird, eine Erfassung (S803) eines ersten Bildes eines ersten Strahlungsfeldes, das von dem Strahlungsfeld erzeugt wird, indem eine Abbildungsvorrichtung verwendet wird, eine Bestimmung (S805) einer Abbildung zwischen dem ersten Bild und dem ersten Profil, eine Erfassung eines zweiten Bildes (S806) eines zweiten Strahlungsfeldes, indem die Abbildungsvorrichtung verwendet wird, und ein Bestimmen (S808) eines zweiten Profils, basierend auf der Abbildung und dem zweiten Bild.A system for capturing (S302) a first image of a radiation field, the radiation field being generated by a radiation beam; and for determining (S303) a second image based on the first image and based on a reference image of a reference radiation field which has a substantially homogeneous intensity, the second image representing properties of the radiation beam. Some embodiments provide detection (S801) of a first profile associated with a radiation beam using a radiation detection device, detection (S803) of a first image of a first radiation field generated by the radiation field using an imaging device , determining (S805) an image between the first image and the first profile, acquiring a second image (S806) of a second radiation field using the imaging device, and determining (S808) a second profile based on the image and the second picture.
    公开号:DE102004006784A1
    申请号:DE200410006784
    申请日:2004-02-11
    公开日:2004-09-02
    发明作者:Farhad Abbassi Danville Ghelmansarai；Francisco Miguel Concord Hernandez-Guerra
    申请人:Siemens Medical Solutions USA Inc；
    IPC主号:A61N5-10
    专利说明:
    [0001] Die Erfindung betrifft allgemeindie Strahlentherapie, und insbesondere ein Kalibrierungs- und/oder Verifikationssystem,das in Verbindung mit einer derartigen Therapie verwendet wird.The invention relates generallyradiation therapy, and in particular a calibration and / or verification system,used in connection with such therapy.
    [0002] Gemäß einer herkömmlichenStrahlentherapie wird ein Strahlungsstrahl auf einen Tumor gerichtet,der sich in einem Patienten befindet. Der Strahlungsstrahl lieferteine vorbestimmte Dosis therapeutischer Strahlung an den Tumor gemäß einemerstellten Therapieplan. Die gelieferte Strahlung tötet Zellendes Tumors, indem eine Ionisation innerhalb der Zellen erzeugt wird.According to a conventional oneRadiation therapy a beam of radiation is aimed at a tumor,who is in a patient. The radiation beam deliversa predetermined dose of therapeutic radiation to the tumor according to acreated therapy plan. The radiation delivered kills cellsof the tumor by creating ionization within the cells.
    [0003] Strahlentherapiepläne sindausgelegt, um die Strahlung, die an ein Ziel geliefert wird, zumaximieren, währenddie Strahlung, die an gesundes Gewebe geliefert wird, minimiertwird. Dies kann nicht erreicht werden, wenn die Strahlung nichtexakt gemäß dem Therapieplangeliefert wird. Speziell könnenFehler bei der Strahlenauslieferung eine geringe Bestrahlung derTumore und eine hohe Bestrahlung des empfindlichen gesunden Gewebeszur Folge haben. Die Wahrscheinlichkeit für eine Fehlbestrahlung erhöht sichmit der Zunahme der Lieferfehler.Radiotherapy plans aredesigned to increase the radiation delivered to a targetmaximize whileminimizes the radiation delivered to healthy tissuebecomes. This cannot be achieved if the radiation is notexactly according to the therapy planis delivered. Specifically canFailure to deliver a low level of radiationTumors and high radiation of sensitive healthy tissuehave as a consequence. The probability of incorrect radiation increaseswith the increase in delivery errors.
    [0004] Eine Strahlung kann fehlerhaft geliefertwerden, wenn Eigenschaften des Strahlungsstrahls nicht mit Strahleigenschaften übereinstimmen,auf denen der Strahlentherapieplan basiert. Ein Strahlentherapieplanwird ausgehend von erwarteten Eigenschaften des Strahlungsstrahlsentworfen, der verwendet wird, um die therapeutische Strahlung zuliefern. Diese Eigenschaften umfassen bestimmte Werte der Ebenheit,Symmetrie und die Penumbra (Halbschattenbereich). Andere Parameter,auf denen ein Plan basieren kann, sind beispielsweise die Divergenz desStrahlungsstrahls, die Distanz, überdie der Strahl an den Therapiebereich wandert, und Dämpfungseigenschaftenvon Organen und anderen Strukturen eines Patienten, die den Therapiebereichumgeben.Radiation can be delivered incorrectlyif properties of the radiation beam do not match beam properties,on which the radiotherapy plan is based. A radiation therapy planis based on expected properties of the radiation beamdesigned to use therapeutic radiationdeliver. These properties include certain flatness values,Symmetry and the penumbra (penumbra). Other parameters,a plan can be based on, for example, the divergence of theRadiation beam, the distance, overthat the beam travels to the therapy area, and damping propertiesof a patient's organs and other structures covering the therapy areasurround.
    [0005] 1a zeigtein Profil eines Strahlungsfeldes, welches durch einen Strahlungsstrahlerzeugt wird. Das Feld enthältdie Schnittflächedes Strahlungsstrahls mit einer Ebene, beispielsweise einer Oberfläche einerStrahlenabbildungsvorrichtung (Radiation Imaging Vorrichtung). Profil1 stellt Abweichungen bezüglichder Intensitätdes Strahlenfeldes übereine zentrale Achse des Strahlungsfeldes dar. Das Profi1 1 kannverwendet werden, um die Flachheit des Strahlungsstrahls zu bestimmen.In einem Ausführungsbeispielist die Flachheit (Ebenheit) in Prozent angegeben als |(Imax – Imin)/(Imax +Imin)|*100. 1a shows a profile of a radiation field, which is generated by a radiation beam. The field contains the intersection of the radiation beam with a plane, for example a surface of a radiation imaging device. Profile 1 represents deviations in the intensity of the radiation field over a central axis of the radiation field. The Profi1 1 can be used to determine the flatness of the radiation beam. In one embodiment, the flatness (planarity) is given in percent as | (I max - I mi n) / (I max + I min) | * 100th
    [0006] Das Profil 1 kann auch verwendetwerden, um die Penumbra (den Halbschatten) des Strahls zu bestimmen.Der linke Halbschatten und der rechte Halbschatten können jeweilsdefiniert werden als Distanz zwischen 80 % Intensitätswert und20 % Intensitätswertauf der linken und rechten Seite der Zentralachse. Der Intensitätswert inder Mitte der Zentralachse ist auf 100 normalisiert, wie in 1a gezeigt.Profile 1 can also be used to determine the penumbra (penumbra) of the beam. The left penumbra and the right penumbra can each be defined as the distance between 80% intensity value and 20% intensity value on the left and right side of the central axis. The intensity value in the center of the central axis is normalized to 100, as in 1a shown.
    [0007] Die Werte des Profils 1 wie in 1b gezeigt, können verwendetwerden, um die Symmetrie des Strahlungsstrahls zu bestimmen. DieSymmetrie kann auch in Prozent ausgedrückt werden durch. Gemäß einigenSystemen ist die Symmetrie gleich [(A1 + A2 + ... An)/n – (B1 + B2 + ... Bn)/n ]/[(A1 + A2 + ... An)/n – (B1 + B2 + ... Bn)/n] /2* 100 The values of profile 1 as in 1b shown can be used to determine the symmetry of the radiation beam. The symmetry can also be expressed in percent by. According to some systems, the symmetry is the same [(A 1 + A 2 + ... A n ) / n - (B 1 + B 2 + ... B n )/n / A 1 + A 2 + ... A n ) / n - (B 1 + B 2 + ... B n ) / n] / 2 * 100
    [0008] Da ein Therapieplan auf erwartetenWerten der Strahleigenschaften basieren kann, werden diese Eigenschaftenoft vor der Lieferung der Strahlung gemäß dem Plan verifiziert. HerkömmlicheVerifikationssysteme verwenden eine Abtastionenkammer, um einenStrahlungsstrahl zu empfangen und die Intensitäten an verschiedenen Punkteneines Strahlungsfeldes, das durch den Strahl erzeugt wird, aufzuzeichnen.Die Strahleigenschaften werden basierend auf den Intensitäten, wieoben beschrieben, berechnet und in Bezug auf erwartete Werte überprüft. DerartigeSysteme könnenmühsam,zeitintensiv und/oder in anderer Weise ineffizient sein.As a therapy plan on expectedValues of the beam properties can be based on these propertiesoften verified before delivery of radiation according to the plan. conventionalVerification systems use a scanning ion chamber to create aRadiation beam received and the intensities at different pointsrecord a radiation field generated by the beam.The beam properties are based on the intensities, such asdescribed above, calculated and checked for expected values. suchSystems canlaboriouslybe time consuming and / or otherwise inefficient.
    [0009] Andere Strahlverifikationssystemeerfassen ein Bild des Strahlungsfeldes, indem eine herkömmlicheAbbildungsvorrichtung (Imaging Vorrichtung) verwendet wird und bestimmendie Intensitätenan verschiedenen Punkten des Feldes basierend auf dem Bild. Abweichungender bestimmten Intensitätenkönnenjedoch von Abweichungen im Strahl und von Differenzen der Empfindlichkeitender Imaging-Elemente des Imaging-Geräts kommen. Demzufolge spiegelndie Strahleigenschaften, die basierend auf den Intensitäten bestimmtworden sind, nicht zuverlässigdie tatsächlichenEigenschaften des Strahls wider.Other beam verification systemscapture an image of the radiation field by a conventional oneImaging device is used and determinethe intensitiesat different points of the field based on the picture. deviationsof certain intensitiescanhowever, deviations in the beam and differences in sensitivityof the imaging elements of the imaging device come. Therefore mirrorthe beam properties determined based on the intensitieshave not been reliablethe actualProperties of the beam reflected.
    [0010] Es wäre daher vorteilhaft, ein Systembereitzustellen, welches eine bessere Effizienz und eine genauereBestimmung von Strahleigenschaften liefert.It would therefore be beneficial to have a systemto provide which is better efficiency and more accurateDetermination of beam properties delivers.
    [0011] Zur Lösung der oben genannten Probleme lieferneinige Ausführungsbeispieleein System, ein Verfahren, ein Medium, eine Vorrichtung und einMittel zum Erfassen eines ersten Bildes eines Strahlungsfeldes,wobei das Strahlungsfeld von einem Strahlungsstrahl erzeugt wird,und zum Bestimmen eines zweiten Bildes basierend auf dem erstenBild und einem Referenzbild eines Referenzstrahlungsfeldes, welchesim wesentlichen eine homogene Intensität aufweist, wobei das zweiteBild Eigenschaften des Strahlungsstrahls darstellt. Gemäß einigen Ausführungsbeispielenumfasst die Bestimmung die Korrektur des ersten Bildes bezüglich Differenzenin Pixeleigenschaften, wobei die Differenzen der Pixeleigenschaftendurch das Referenzbild dargestellt werden.Deliver to solve the above problemssome examplesa system, a method, a medium, a device and aMeans for acquiring a first image of a radiation field,the radiation field being generated by a radiation beam,and for determining a second image based on the firstImage and a reference image of a reference radiation field, whichhas essentially a homogeneous intensity, the secondImage represents properties of the radiation beam. According to some embodimentsthe determination includes correcting the first image for differencesin pixel properties, the differences in pixel propertiescan be represented by the reference image.
    [0012] Gemäß einigen Ausführungsbeispielenwird ein erstes Profil, das mit einem Strahlungsstrahl in Zusammenhangsteht, erfasst, indem eine Strahlungsdetektionsvorrichtung verwendetwird, ein erstes Bild eines ersten Strahlungsfeldes, das von dem Strahlungsstrahlerzeugt wird, wird erfasst, indem ein Imaginggerät verwendet wird, eine Abbildungzwischen dem ersten Bild und dem ersten Profil wird bestimmt, einzweites Bild eines zweiten Strahlungsfeldes wird erfasst, indemdas Imaginggerätverwendet wird, und ein zweites Profil wird basierend auf dem Abbildund dem zweiten Bild bestimmt.According to some embodimentsbecomes a first profile associated with a radiation beamis detected by using a radiation detection deviceis a first image of a first radiation field, which is from the radiation beamgenerated is captured using an imaging device, an imagebetween the first image and the first profile is determined asecond image of a second radiation field is captured bythe imaging deviceis used, and a second profile is based on the imageand the second picture.
    [0013] Die beanspruchte Erfindung ist nichtauf die offenbarten Ausführungsbeispielebeschränkt,vielmehr kann ein Fachmann auf diesem Gebiet die angegebene Lehreanwenden, um andere Ausführungsbeispieleund Anwendungen zu erhalten.The claimed invention is notto the disclosed embodimentslimited,rather, a person skilled in the art can do the teaching givenapply to other embodimentsand get applications.
    [0014] Die genaue Eigenart der beanspruchtenErfindung sowie ihre Aufgaben und Vorteile werden durch die folgendeBeschreibung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen deutlich,wobei gleiche Bezugszeichen gleiche Teile in den Figuren kennzeichnen.Es zeigen:The exact nature of the claimedInvention, as well as its objects and advantages, are as followsDescription clearly with reference to the accompanying drawings,the same reference numerals designating the same parts in the figures.Show it:
    [0015] 1a Strahlprofilwerte,die zur Berechnung der Strahlebenheit und des Strahlhalbschattensverwendet werden; 1a Beam profile values used to calculate the beam unit and the beam penumbra;
    [0016] 1b Strahlprofilwerte,die zur Berechnung der Strahlsymmetrie verwendet werden; 1b Beam profile values used to calculate beam symmetry;
    [0017] 2 eineAnsicht eines Strahlentherapieraums; 2 a view of a radiation therapy room;
    [0018] 3 einFlussdiagramm mit Verfahrensschritten gemäß einigen Ausführungsbeispielen; 3 a flowchart with method steps according to some embodiments;
    [0019] 4 dasErfassen eines Referenzbildes gemäß einigen Ausführungsbeispielen; 4 capturing a reference image according to some embodiments;
    [0020] 5 einReferenzbild gemäß einigenAusführungsbeispielen; 5 a reference image according to some embodiments;
    [0021] 6 einerstes Bild eines Strahlungsfeldes gemäß einigen Ausführungsbeispielen; 6 a first image of a radiation field according to some embodiments;
    [0022] 7 einzweites Bild, das basierend auf dem Referenzbild und dem erstenBild bestimmt wird gemäß einigenAusführungsbeispielender Erfindung; 7 a second image determined based on the reference image and the first image in accordance with some embodiments of the invention;
    [0023] 8a und 8b Flussdiagramme mit Verfahrensschrittengemäß einigenAusführungsbeispielen; 8a and 8b Flow diagrams with method steps according to some embodiments;
    [0024] 9 eineAnsicht eines Strahlentherapieraums; 9 a view of a radiation therapy room;
    [0025] 10 einStrahlprofil; 10 a beam profile;
    [0026] 11 einBild, das durch ein Imaginggerät erfasstwird gemäß einigenAusführungsbeispielen; 11 an image captured by an imaging device according to some embodiments;
    [0027] 12 einkorrigiertes Bild gemäß einigen Ausführungsbeispielen; 12 a corrected image according to some embodiments;
    [0028] 13 einBild, das von einem Imaginggerät gemäß einigenAusführungsbeispielenerfasst wird; 13 an image captured by an imaging device according to some embodiments;
    [0029] 14 einkorrigiertes Bild gemäß einigen Ausführungsbeispielen;und 14 a corrected image according to some embodiments; and
    [0030] 15 einStrahlungsprofil gemäß einigen Ausführungsbeispielen. 15 a radiation profile according to some embodiments.
    [0031] Die folgende Beschreibung soll Fachleute aufdiesem Gebiet in die Lage versetzen, die beanspruchte Erfindungnachzuvollziehen und zu verwenden, und stellt die bestmöglichsteAusführungsform dar.Verschiedene Modifikationen sind Fachleuten auf diesem Gebiet jedochoffensichtlich.The following description is intended to address professionalsenable the claimed inventionunderstand and use, and represents the best possibleEmbodiment.However, various modifications are known to those skilled in the artobviously.
    [0032] 2 zeigteinen Strahlentherapieraum 1 gemäß einigen Ausführungsbeispielen.Der Strahlentherapieraum 1 enthält einen Linearbeschleuniger (Linac) 10,ein Imaginggerät 20,einen Tisch 30 und eine Anwenderstation 40. DieElemente des Strahlentherapieraums 1 werden verwendet,um therapeutische Strahlung an einem Patienten gemäß einem Strahlentherapieplanzu liefern. 2 shows a radiation therapy room 1 according to some embodiments. The radiation therapy room 1 contains a linear accelerator (Linac) 10 , an imaging device 20 , a table 30 and a user station 40 , The elements of the radiation therapy room 1 are used to deliver therapeutic radiation to a patient according to a radiation therapy plan.
    [0033] Der Linac 10 erzeugt dietherapeutische Strahlung und sendet sie aus, und besteht in erster Linieaus einem Behandlungskopf 11 und einem Gestell 12.Der Behandlungskopf 11 enthält eine Strahlaussendevorrichtung(nicht gezeigt) zum Aussenden eines Strahlungsstrahls, der während derKalibrierung, Verifikation und/oder Behandlung verwendet wird. DerStrahlungsstrahl kann Elektronen, Photonen oder irgend einen anderenTyp von Strahlung umfassen. Ebenfalls in dem Behandlungskopf 11 enthaltenist eine Strahlabschirmvorrichtung, oder Kollimator (nicht gezeigt)zum Formen des Strahls, und um empfindliche Oberflächen vordem Strahl zu schützen.The Linac 10 generates and emits therapeutic radiation and consists primarily of a treatment head 11 and a frame 12 , The treatment head 11 includes a beam emitter (not shown) for emitting a radiation beam used during calibration, verification and / or treatment. The radiation beam can include electrons, photons, or any other type of radiation. Also in the treatment head 11 a beam shielding device or collimator (not shown) is included to shape the beam and to protect sensitive surfaces from the beam.
    [0034] Ein Hilfskasten 13 ist aufdem Behandlungskopf 11 montiert und kann ausgelegt sein,um Anbauten aufzunehmen und sicherzuhalten, die während derDurchführungder Behandlungsplanung und der Behandlung verwendet werden. DieseAnbauten sind beispielsweise eine Strichplatte, Keile oder dergleichenzur weiteren Definierung der Feldgrößen und Intensitäten.An auxiliary box 13 is on the treatment head 11 assembled and can be designed to accommodate and hold attachments that are used during treatment planning and treatment execution. These attachments are, for example, a graticule, wedges or the like for further definition of the field sizes and intensities.
    [0035] Der Behandlungskopf 11 istan einem Vorsprung des Gestells 12 befestigt. Das Gestell 12 ist vor,währendund nach der Strahlenbehandlung um eine Gestellachse 14 drehbar.Währendeiner derartigen Behandlung wird Strahlung von dem Linac 10 andie Strahlaussendevorrichtung des Behandlungskopfes 11 geliefertund von dort als Strahl ausgesendet, der die Achse 15 aufweist.Der Strahl wird auf einen Punkt ausgesendet, der als Isozentrumbekannt ist, welches sich an dem Schnittpunkt der Achse 15 undder Gestellachse 14 befindet. Aufgrund von Divergenzendes Strahlungsstrahls und des Formens des Strahls durch die obengenannten Strahlformvorrichtungen liefert der Strahl Strahlung anein Strahlungsfeld, das nicht nur lediglich das Isozentrum ist.The treatment head 11 is on a projection of the frame 12 attached. The frame 12 is before, during and after radiation treatment around a frame axis 14 rotatable. During such treatment, radiation from the Linac 10 to the beam emitting device of the treatment head 11 delivered and emitted from there as a beam that the axis 15 having. The beam is emitted to a point known as the isocenter, which is at the intersection of the axis 15 and the rack axis 14 located. Due to divergences of the radiation beam and the shaping of the beam by the beam shaping devices mentioned above, the beam delivers radiation to a radiation field that is not just the isocenter.
    [0036] Das Imaginggerät 20 erfasst Bilder,die vor, währendund nach der Strahlentherapie verwendet werden. Das Imaginggerät 20 wirdbeispielsweise verwendet, um Bilder zur Verifikation und Aufzeichnungeiner Patientenposition zu erfassen und von internen Patientenportalen,an die Strahlung geliefert wird. Die Bilder, die von dem Imaginggerät 20 erfasst werden,könnenebenfalls gemäß einigenAusführungsbeispielender Erfindung verwendet werden, um Eigenschaften eines Strahlungsstrahls,der von dem Linac 10 ausgesendet wird, zu bestimmen. Wie obenbeschrieben, hängtdie Effizienz einer Strahlentherapie oft von den Eigenschaften des Strahlungsstrahlsab. Im folgenden werden einige Ausführungsbeispiele zur Bestimmungder Strahlungseigenschaften durch Verwendung des Imaginggeräts 20 beschrieben.The imaging device 20 captures images used before, during, and after radiation therapy. The imaging device 20 is used, for example, to capture images for verification and recording of a patient position and from internal patient portals to which radiation is delivered. The images from the imaging device 20 can also be used according to some embodiments of the invention, properties of a radiation beam emitted by the Linac 10 is sent to determine. As described above, the efficiency of radiation therapy often depends on the properties of the radiation beam. The following are some exemplary embodiments for determining the radiation properties by using the imaging device 20 described.
    [0037] Gemäß einigen Ausführungsbeispielenist das Imaginggerät 20 eineFlat-Panel-Abbildungsvorrichtung,die eine Szintillatorschicht und amorphe Festkörpersiliziumphotodioden verwendet,die in einem zweidimensionalen Array (Anordnung) angeordnet sind.RID1640, angeboten von Perkin-Elmer®, Inc,aus Fremont, Kalifornien, ist eine derartige geeignete Vorrichtung.Das Imaginggerät 20 kannan dem Gestell 12 in irgendeiner Weise angebracht werden,einschließlich über eineausziehbare und abnehmbare Armstruktur 21.In some embodiments, the imaging device 20 a flat panel imaging device using a scintillator layer and amorphous solid-state silicon photodiodes arranged in a two-dimensional array. RID1640 offered by Perkin-Elmer ®, Inc., of Fremont, California, is such a suitable device. The imaging device 20 can on the frame 12 can be attached in any way, including an extendable and removable arm structure 21 ,
    [0038] Währenddes Betriebs empfängtdie Szintillatorschicht Röntgenstrahlenund erzeugt Licht im Verhältniszur Intensitätder empfangenen Röntgenstrahlen.Die Anordnung der Photodioden empfängt das Licht und zeichnetdie Intensitätdes empfangenen Lichts als gespeicherte elektrische Ladung auf. Diegespeicherte Ladung enthältalso ein erfasstes Bild, welches die Intensitäten an jeder Position eines Strahlungsfeldesdarstellt, das durch einen Strahlungsstrahl erzeugt wird. Die Grenzendes Strahlungsfeldes sind durch die physikalische Schnittfläche desStrahlungsstrahls mit der Oberflächeder Szintillatorschicht bestimmt.Whileof the company receivesthe scintillator layer x-raysand creates light in proportionto intensityof the x-rays received.The arrangement of the photodiodes receives the light and drawsthe intensityof the received light as a stored electrical charge. Thecontains stored cargoSo a captured image that shows the intensities at each position of a radiation fieldrepresents that is generated by a radiation beam. The limitsof the radiation field are determined by the physical intersection of theRadiation beam with the surfacethe scintillator layer.
    [0039] Das Imaginggerät 20 kann andere Typenvon Abbildungsvorrichtungen enthalten. Beispielsweise kann eineRöntgenstrahlungauch in eine elektrische Ladung gewandelt und gespeichert werden,ohne daß eineSzintillatorschicht verwendet wird. In derartigen Abbildungsvorrichtungen(Imaginggeräten) werdendie Röntgenstrahlendirekt von einer Anordnung von amorphen Selenphotoleitern absorbiert. DiePhotoleiter wandeln die Röntgenstrahlendirekt in zu speichernde elektrische Ladung, die ein erfasstes Bildeines Strahlungsfeldes enthält.Das Imaginggerät 20 kannauch ein CCD oder eine röhrenbasierte Kameraenthalten. Eine derartige Abbildungsvorrichtung kann ein lichtdichtesGehäuse 21 aufweisen,innerhalb welchem ein Szintillator, ein Spiegel und eine Kameraangeordnet sind.The imaging device 20 may include other types of imaging devices. For example, an X-ray radiation can also be converted into an electrical charge and stored without using a scintillator layer. In such imaging devices (imaging devices) the X-rays are absorbed directly by an arrangement of amorphous selenium photoconductors. The photoconductors convert the X-rays directly into an electrical charge to be stored, which contains a captured image of a radiation field. The imaging device 20 can also include a CCD or a tube-based camera. Such an imaging device can be a light-tight housing 21 have within which a scintillator, a mirror and a camera are arranged.
    [0040] Ein Tisch 30 trägt während einerStrahlentherapie einen Patienten. Der Tisch 30 ist einstellbar, umzusammen mit der Drehung des Gestells 12 sicherzustellen,dass ein Therapiebereich des Patienten im Isozentrum positioniertist. Der Tisch 30 kann auch verwendet werden, um Geräte abzustützen, die zurKalibrierung und/oder Verifikation verwendet werden.A table 30 carries a patient during radiation therapy. The table 30 is adjustable to along with the rotation of the rack 12 ensure that a patient's therapy area is positioned in the isocenter. The table 30 can also be used to support devices used for calibration and / or verification.
    [0041] Die Anwenderstation 40 enthält einenProzessor 41, der mit einer Eingabevorrichtung beispielsweiseeiner Tastatur 42 und einer Bedienerkonsole 43 (einschließlich eineroder mehrerer visueller Anzeigeeinheiten oder Monitore) in Verbindungsteht. Die Anwenderstation 40 wird typischerweise von einemAnwender betrieben, der die eigentliche Lieferung von therapeutischerStrahlung, wie von einem Onkologen vorgeschrieben, verabreicht.Die Anwenderstation 40 kann vom Linac 10 entferntangeordnet sein, beispielsweise einem anderen Raum, um den Anwendervor Strahlung zu schützen.Der Linac 10 ist beispielsweise in einem stark abgeschirmten Raumangeordnet, beispielsweise einer Betonkammer, die den Anwender vorStrahlung abschirmt, die durch die Linac 10 erzeugt wird.The user station 40 contains a processor 41 with an input device such as a keyboard 42 and an operator console 43 (including one or more visual display units or monitors). The user station 40 is typically operated by a user who administers the actual delivery of therapeutic radiation as prescribed by an oncologist. The user station 40 can from Linac 10 be arranged remotely, for example another room, to protect the user from radiation. The Linac 10 is arranged, for example, in a highly shielded room, for example a concrete chamber, which shields the user from radiation emitted by the Linac 10 is produced.
    [0042] Der Anwender benutzt die Tastatur 42 um Kalibrierungs-und/oder Verifikationsverfahren durchzuführen. Diese Verfahren können dieVerifikation von Strahleigenschaften, Strahlungs- und Lichtfeldkongruenz, und Feldformungaufweisen, sowie das Erfassen von Daten, die zur Bildkorrektur verwendet werden.Die Anwenderkonsole 43 zeigt dem Anwender vor, während undnach der Therapie Daten an.The user uses the keyboard 42 to perform calibration and / or verification procedures. These methods can include the verification of beam properties, radiation and light field congruency, and field shaping, as well as the acquisition of data that are used for image correction. The user console 43 shows the user data before, during and after the therapy.
    [0043] Der Prozessor 41 kann prozessorausführbare Verfahrensschrittegemäß einigenAusführungsbeispielender Erfindung speichern. Gemäß einem Aspektwerden die Verfahrensschritte durch den Prozessor 41, denLinac 10, das Imaginggerät 20 und/oder andereGeräteausgeführt,um ein erstes Bild eines Strahlungsfeldes zu erfassen, wobei das Strahlungsfelddurch einen Strahlungsstrahl erzeugt wird, und um ein zweites Bildbasierend auf dem ersten Bild und basierend auf einem Referenzbildeines Referenzstrahlungsfeldes, welches im wesentlichen eine homogeneIntensitätaufweist, zu bestimmen, wobei das zweite Bild Eigenschaften desStrahlungsstrahls darstellt. Gemäß einigenAusführungsbeispielenumfasst die Bestimmung, die Korrektur des ersten Bildes in Bezugauf Differenzen der Pixelempfindlichkeiten, wobei die Pixelempfindlichkeitsdifferenzen durchdas Referenzbild dargestellt werden.The processor 41 may store processor-executable method steps in accordance with some embodiments of the invention. In one aspect, the process steps are performed by the processor 41 , the Linac 10 , the imaging device 20 and / or other devices are implemented in order to acquire a first image of a radiation field, the radiation field being generated by a radiation beam, and around a second image based on the first image and based on a reference image of a reference radiation field which has a substantially homogeneous intensity to determine, the second image representing properties of the radiation beam. According to some embodiments, the determination includes correcting the first image for differences in pixel sensitivities, the pixel sensitivity differences being represented by the reference image.
    [0044] Gemäß einigen Ausführungsbeispielender Verfahrensschritte wird ein erstes Profil, das mit einem Strahlungsstrahlin Zusammenhang steht, erfasst, indem eine Strahlungsdetektionsvorrichtung verwendetwird, wobei ein erstes Bild eines ersten Strahlungsfeldes, das vondem Strahlungsstrahl erzeugt wird, erfasst wird, indem ein Imaginggerät verwendetwird, eine Ab bildung zwischen dem ersten Bild und dem ersten Profilwird bestimmt, ein zweites Bild eines zweiten Strahlungsfeldes wirderfasst, indem das Imaginggerätverwendet wird, und ein zweites Profil wird basierend auf der Abbildungund dem zweiten Bild bestimmt.According to some embodimentsThe process steps are a first profile, which is with a radiation beamrelated, detected by using a radiation detection device, wherein a first image of a first radiation field, which ofthe radiation beam is generated is detected using an imaging devicean image between the first image and the first profileis determined, a second image of a second radiation field is determinedcaptured by the imaging deviceis used, and a second profile is based on the figureand the second picture.
    [0045] Die Verfahrensschritte können durchirgendein Medium gespeichert werden, beispielsweise eine Festplatte,eine Diskette, eine CD-ROM, eine DVD-ROM, ein Zip-Laufwerk, einMagnetband oder ein Signal. Einige oder alle Verfahrensschrittekönnenebenfalls in einer oder mehreren Vorrichtungen gespeichert werden.Einige oder alle der oben genannten Verfahrensschritte können inHardware implementiert werden, beispielsweise als Hardwarekarten,die in einem Prozessor 41 installiert sind, und diskreteSchaltungen des Imaginggeräts 20.The process steps can be stored by any medium, such as a hard drive, floppy disk, CD-ROM, DVD-ROM, zip drive, magnetic tape, or signal. Some or all of the process steps can also be stored in one or more devices. Some or all of the above-mentioned method steps can be implemented in hardware, for example as a hardware card ten in a processor 41 installed, and discrete circuits of the imaging device 20 ,
    [0046] Natürlich kann jede der in 2 gezeigten Vorrichtungenweniger oder mehr Elemente als gezeigt aufweisen. Darüber hinaussind die Ausführungsbeispielenicht auf die in 2 gezeigtenGerätebeschränkt.Of course, everyone in 2 devices shown have fewer or more elements than shown. Furthermore, the exemplary embodiments are not based on those in FIG 2 shown devices limited.
    [0047] 3 zeigtein Flussdiagramm mit Verfahrensschritten 300 gemäß einigenAusführungsbeispielen.Die Verfahrensschritte 300 können vollständig oder teilweise in Hardwareund/oder Software implementiert sein, die durch Vorrichtungen ausgeführt werden,die beispielsweise einen Prozessor 41, einen Linac 10 unddas Imaginggerät 20 umfassen,jedoch nicht darauf beschränktsind. 3 shows a flowchart with method steps 300 according to some embodiments. The procedural steps 300 may be implemented in whole or in part in hardware and / or software executed by devices such as a processor 41 , a linac 10 and the imaging device 20 include, but are not limited to.
    [0048] Ein Referenzbild wird zuerst in SchrittS301 erfasst. Das Referenzbild ist ein Bild eines Strahlungsfeldes,welches eine im wesentlichen homogene Intensität aufweist. Das Strahlungsfeldkann durch einen Strahlungsstrahl erzeugt werden, der von irgendeinerStrahlungsquelle ausgesendet wird.A reference picture is first in stepS301 recorded. The reference image is an image of a radiation field,which has a substantially homogeneous intensity. The radiation fieldcan be generated by a radiation beam emitted by anyRadiation source is emitted.
    [0049] 4 zeigtdas Erfassen eines Referenzbildes gemäß Ausführungsbeispielen des Schritts 301. 4 zeigt eine Strahlungsquelle 50,die einen Strahlungsstrahl 55 in Richtung eines Imaginggeräts 20 aussendet.Der Strahlungsstrahl 55 kann irgendeinen Typ von Strahlungaufweisen, einschließlichsichtbares Licht, Elektronenstrahlung und Röntgenstrahlung. Wie oben beschrieben,hat das Strahlungsfeld, das durch den Strahlungsstrahl 55 aufder Oberflächedes Ima ginggeräts 20 erzeugtwird, eine im wesentlichen homogene Intensität. Geeignete Implementationender Strahlungsquelle 50 können eine Kobalt-60 Strahlungsquelleaufweisen. 4 shows the acquisition of a reference image according to embodiments of the step 301 , 4 shows a radiation source 50 that have a radiation beam 55 towards an imaging device 20 sending out. The radiation beam 55 can have any type of radiation, including visible light, electron beam radiation and X-ray radiation. As described above, the radiation field created by the radiation beam 55 on the surface of the Ima walking device 20 is generated, a substantially homogeneous intensity. Suitable implementations of the radiation source 50 can have a cobalt-60 radiation source.
    [0050] Das Strahlungsfeld muss nicht imwesentlichen homogen an jedem Punkt auf der Oberfläche desImaginggeräts 20 sein,sondern kann im wesentlichen nur innerhalb eines Feldbereichs, dervon Interesse ist, homogen sein. Die Abmessungen des Feldbereichs,der von Interesse ist, könneneiner Größe einesStrahlungsfeldes entsprechen, welches von dem Imaginggerät 20 während dernachfolgenden Strahlentherapie erfasst wird.The radiation field does not have to be substantially homogeneous at every point on the surface of the imaging device 20 but can essentially only be homogeneous within a field area of interest. The dimensions of the field area of interest can correspond to a size of a radiation field emitted by the imaging device 20 is recorded during the subsequent radiation therapy.
    [0051] In einem Fall, bei dem der Strahl 55 einsichtbares Licht aufweist, wird vor dem Schritt 5301 ein Szintillatorschirmdes Imaginggeräts 20 entfernt.Da ein Szintillatorschirm des Imaginggeräts 20 innerhalb einesGehäusesdes Imaginggeräts 20 während der Herstellungversiegelt sein kann, kann der Schritt S301 während der Herstellung des Imaginggeräts 20 undbevor der Schirm in dem Gehäuseversiegelt wird, durchgeführtwerden. Der Schritt S301 kann auch im Strahlentherapieraum 1 vorder Strahlentherapie ausgeführtwerden. Der Szintillatorschirm, falls vorhanden, wird während desSchritts S301 in einem Fall verwendet, bei dem der Strahl 55 Röntgenstrahlungaufweist.In a case where the beam 55 has a visible light before the step 5301 a scintillator screen of the imaging device 20 away. There is a scintillator screen of the imaging device 20 within a housing of the imaging device 20 may be sealed during manufacture, step S301 may be during manufacture of the imaging device 20 and before the shield is sealed in the housing. Step S301 can also be in the radiation therapy room 1 to be done before radiation therapy. The scintillator screen, if any, is used during step S301 in a case where the beam 55 Has X-rays.
    [0052] 5 zeigtdas Referenzbild 60, das in Schritt S301 erfasst wird.Aus Gründender Einfachheit reflektiert das Referenzbild 60 die Intensität des Strahlungsfeldes über eineZeile oder eine Spalte des Imaginggeräts 20. Das Referenzbild,das in Schritt S301 erfasst worden ist, kann die Intensität des Strahlungsfeldes über mehrals eine Zeile und/oder Spalte des Imaginggeräts 20 widerspiegeln.Da das Strahlungsfeld, das durch den Strahlungsstrahl 55 erzeugtwird, im wesentlichen homogen ist, entstehen Abweichungen der Intensitäten in Bild 60 innerhalbdes Feldes, das von Interesse ist, im wesentlichen aufgrund derDifferenzen der Empfindlichkeiten der entsprechenden Pixel des Imaginggeräts 20. 5 shows the reference image 60 which is detected in step S301. For the sake of simplicity, the reference image reflects 60 the intensity of the radiation field over a row or a column of the imaging device 20 , The reference image, which was acquired in step S301, can show the intensity of the radiation field over more than one row and / or column of the imaging device 20 reflect. Because the radiation field caused by the radiation beam 55 generated, is essentially homogeneous, deviations in the intensities arise in the image 60 within the field of interest, essentially due to the differences in the sensitivity of the corresponding pixels of the imaging device 20 ,
    [0053] Als nächstes wird in Schritt S302ein Bild eines Strahlungsfeldes erfasst, das von einem Strahlungsstrahlerzeugt wird. Wie oben beschrieben ist das Strahlungsfeld durchdie Schnittflächedes Strahlungsstrahls mit der Oberfläche des Imaginggeräts 20 definiert.Der Strahlungsstrahl kann einen Strahl einer therapeutischen Strahlungaufweisen, die gemäß einemTherapieplan zu liefern ist. Der Schritt S302 kann folglich während derStrahlverifikationsverfahren, die vor der Strahlentherapie erfolgen,erfolgen.Next, in step S302, an image of a radiation field generated by a radiation beam is acquired. As described above, the radiation field is through the intersection of the radiation beam with the surface of the imaging device 20 Are defined. The radiation beam can have a beam of therapeutic radiation that is to be delivered according to a therapy plan. Step S302 can thus take place during the beam verification processes that take place before the radiation therapy.
    [0054] 6 zeigtein Bild 70, wie es in Schritt S302 erfasst worden ist.Das Bild 70 reflektiert die Intensität des Strahlungsfeldes wider, über eineZeile oder Spalte des Imaginggeräts 20.Gemäß einigenAusführungsbeispielenist eine Zeile oder Spalte identisch mit einer Zeile oder Spalte,die mit dem Referenzbild 60 in Zusammenhang steht. DasBild 70 reflektiert folglich sowohl Abweichungen der Intensitäten desStrahlungsfeldes als auch Differenzen der Empfindlichkeiten derPixel des Imaginggeräts 20 über dieeine Zeile oder Spalte. 6 shows a picture 70 as detected in step S302. The picture 70 reflects the intensity of the radiation field across a row or column of the imaging device 20 , According to some embodiments, a row or column is identical to a row or column with the reference image 60 related. The picture 70 consequently reflects both deviations in the intensities of the radiation field and differences in the sensitivities of the pixels of the imaging device 20 over the one row or column.
    [0055] Ein Strahleigenschaftsbild wird inSchritt S303 bestimmt. Das Strahleigenschaftsbild wird basierendauf dem Referenzbild und dem in Schritt S302 erfassten Bild bestimmt.Gemäß einigenAusführungsbeispielendes Schritts S303 wird das Bild, das in Schritt S302 erfasst wordenist, in Bezug auf Differenzen der Pixelempfindlichkeiten, wie siein dem Referenzbild dargestellt werden, korrigiert. Das Referenzbildkann entsprechend als Gewinnkorrekturbild verwendet werden, um daserfasste Bild in Bezug auf die Differenzen der Pixelempfindlichkeitenzu normalisieren. Die Intensitätswertedes erfassten Bildes werden speziell für diejenigen Pixel reduziert,die eine überdurchschnittlicheEmpfindlichkeit aufweisen und fürdiejenigen Pixel erhöht,die eine unterdurchschnittliche Empfindlichkeit aufweisen.A beam property picture is shown inStep S303 determines. The beam property image is baseddetermined on the reference image and the image acquired in step S302.According to someembodimentsof step S303 becomes the image captured in step S302is, in terms of differences in pixel sensitivities like themdisplayed in the reference image, corrected. The reference picturecan accordingly be used as a profit correction image to thecaptured image with respect to the differences in pixel sensitivitiesto normalize. The intensity valuesof the captured image are reduced specifically for those pixelswhich is an above averageHave sensitivity and forthose pixels increasedthat have below-average sensitivity.
    [0056] Das Strahleigenschaftsbild 80 gemäß 7 wird basierend auf einemReferenzbild 60 und einem Bild 70 bestimmt. Wieoben beschrieben, repräsentiertdas Referenzbild 60 Differenzen bezüglich der Pixelempfindlichkeiten über einerZeile oder Spalte des Imaginggeräts 20,und das Bild 70 repräsentiert beides,die Intensitätsabweichungendes Strahlungsfeldes und die Empfindlichkeitsdifferenzen der Pixel über derZeile oder Spalte. Da das Referenzbild 60 als Gewinnkorrekturbildverwendet wird, repräsentiertdas Strahleigenschaftsbild 80 im wesentlichen nur die Intensitätsabweichungendes Strahlungsfeldes. Als Ergebnis kann das Strahleigenschaftsbild verwendetwerden, um zuverlässigdie Eigenschaften des Strahlungsstrahls, der vom Linac 10 ausgesendetwird, zu bestimmen.The beam property picture 80 according to 7 is based on a reference image 60 and a picture 70 certainly. As described above, the reference image represents 60 Differences in pixel sensitivity across a row or column of the imaging device 20 , and the picture 70 represents both the intensity deviations of the radiation field and the sensitivity differences of the pixels above the row or column. Because the reference picture 60 is used as a profit correction image the beam property image 80 essentially only the intensity deviations of the radiation field. As a result, the beam property map can be used to reliably measure the properties of the radiation beam emitted by the Linac 10 is sent to determine.
    [0057] Eigenschaften des Strahlungsstrahlswerden folglich in Schritt S304 bestimmt, basierend auf dem Strahleigenschaftsbild.Die bestimmten Eigenschaften könnendie Strahlebenheit, die Strahlsymmetrie und/oder den Strahlhalbschattenund/oder andere Eigenschaften umfassen. Diese Eigenschaften können bestimmtwerden, indem Techniken verwendet werden, die im Vorangegangenenbeschrieben wurden.Properties of the radiation beamare thus determined in step S304 based on the beam property image.The specific properties canthe beam unit, the beam symmetry and / or the penumbraand / or include other properties. These properties can be determinedusing techniques that have been described in the previoushave been described.
    [0058] Gemäß einigen Ausführungsbeispielender Verfahrensschritte 300 wird ein wasseräquivalenter Aufbauam Isozentrum des Linac 10 während des Schritts S302 platziert.Als Ergebnis spiegelt das in Schritt S302 erfasste Bild die Dämpfung,Streuung oder andere Störungendes Strahlungsstrahls wider, die durch den wasseräquivalentenAufbau erzeugt werden. Eine derartige Anordnung kann verwendet werden,um ein Strahleigenschaftsbild zu erzeugen, das vergleichbar istmit Strahleigenschaftsbildern, die in herkömmlicher Weise erzeugt werden,indem Abtastionenkammern verwendet werden. Diesbezüglich werdendie Abtastionenkammern oft in einen wasseräquivalenten Aufbau eingetaucht.Gemäß einigerKonventionen ist der wasseräquivalenteAufbau 5 cm dick fürStrahlungsenergien kleiner als 6 MeV und 10 cm dick für Strahlungsenergiengleich oder größer als6 MeV.According to some embodiments of the method steps 300 becomes a water-equivalent structure at the isocenter of the Linac 10 placed during step S302. As a result, the image acquired in step S302 reflects the attenuation, scattering, or other disturbances of the radiation beam generated by the water equivalent structure. Such an arrangement can be used to produce a beam property image that is comparable to beam property images that are conventionally generated using scan ion chambers. In this regard, the scan ion chambers are often immersed in a water equivalent structure. According to some conventions, the water equivalent structure is 5 cm thick for radiation energies less than 6 MeV and 10 cm thick for radiation energies equal to or greater than 6 MeV.
    [0059] Die 8a und 8b zeigen Flussdiagramme derVerfahrensschritte 800 gemäß einigen Ausführungsbeispielen.Die Verfahrensschritte 800 können vollständig oder teilweise durch Hardwareund/oder Software implementiert werden, die durch Vorrichtungenausgeführtwird, die beispielsweise einen Prozessor 41, einen Linac 10 undein Imaginggerät 20 umfassen.The 8a and 8b show flow diagrams of the process steps 800 according to some embodiments. The procedural steps 800 may be implemented in whole or in part by hardware and / or software executed by devices such as a processor 41 , a linac 10 and an imaging device 20 include.
    [0060] Die Prozessschritte beginnen beiSchritt S801, in welchem ein erstes Profil, das mit einem Strahlungsstrahlin Zusammenhang steht, erfasst wird. Das erste Profil kann erfasstwerden, indem eine Strahlungsdetektionsvorrichtung, beispielsweiseeine Abtastionenkammer verwendet wird. 9 zeigt einen Strahlentherapieraum 1 während des SchrittsS801 gemäß der Erfindung.Die Abtastionenkammer 90 ist auf dem Tisch 30 zwischendem Behandlungskopf 11 und dem Imaginggerät 20 angeordnet.Die Abtastionenkammer 90 kann ein Wassergebilde mit einerTiefe von 10 cm aufweisen und darin angeordnete Strahlungsdetektoren,beispielsweise Thermoluminiszenzdetektoren oder dergleichen.The process steps begin at step S801, in which a first profile which is associated with a radiation beam is detected. The first profile can be detected by using a radiation detection device, for example a scanning ion chamber. 9 shows a radiation therapy room 1 during step S801 according to the invention. The scanning ion chamber 90 is on the table 30 between the treatment head 11 and the imaging device 20 arranged. The scanning ion chamber 90 can have a water structure with a depth of 10 cm and radiation detectors arranged therein, for example thermoluminescence detectors or the like.
    [0061] Obwohl das Gestell 12 gedrehtwird, um eine Ansicht des Behandlungskopfes 11 zu liefern,kann das Gestell 12 währenddes Schritts S801 derart positioniert werden, dass ein Strahlungsstrahl,der von dem Behandlungskopf 11 ausgesendet wird, normal (lotrecht)zur oberen Fläche derAbtastionenkammer 90 ist. Ein Profil des ausgesendetenStrahls wird durch die Abtastionenkammer 90 und den Prozessor 41 erfasst. 10 zeigt ein Profil einesStrahlungsstrahls gemäß einigenAusführungsbeispielen.Das Profil 100 präsentiertdie Strahlungsintensitätenan verschiedenen Stellen entlang einer Hauptachse eines Strahlungsfeldes,das von dem Strahlungsstrahl erzeugt wird. Das in Schritt S801 erfassteProfil kann Strahlungsintensitätenan irgendeinem Punkt des Strahlungsfeldes darstellen, und kann dieStrahlungsintensitätenin grafischer, tabellarischer oder anderer Weise darstellen.Although the frame 12 is rotated to a view of the treatment head 11 can deliver the frame 12 be positioned during step S801 such that a radiation beam is emitted from the treatment head 11 is emitted, normal (perpendicular) to the upper surface of the scanning ion chamber 90 is. A profile of the emitted beam is made through the scanning ion chamber 90 and the processor 41 detected. 10 shows a profile of a radiation beam according to some embodiments. The profile 100 presents the radiation intensities at various locations along a major axis of a radiation field generated by the radiation beam. The profile acquired in step S801 may represent radiation intensities at any point in the radiation field, and may represent the radiation intensities in a graphic, tabular or other manner.
    [0062] Schritt S801 kann monatlich, wöchentlich oderin anderen Abständenausgeführtwerden, um ein Referenzprofil eines Strahlungsstrahls zu erfassen,der fürStrahlentherapie zu verwenden ist. Das erfasste Referenzprofil kannverwendet werden, um Strahlentherapiepläne zu entwerfen.Step S801 can be monthly, weekly orat other intervalsaccomplishedto capture a reference profile of a radiation beam,the forRadiotherapy is to be used. The recorded reference profile canused to design radiation therapy plans.
    [0063] Die Korrekturbilder werden für das Imaginggerät 20 basierendauf dem Strahlungsstrahl in Schritt S802 erfasst. Die Korrekturbilderkönnenzu jeder Zeit vor der Strahlentherapie erfasst werden, werden jedoch üblicherweisefrüh amMorgen erfasst, vor der Durchführungder Strahlentherapie im Laufe des Tages. Gemäß einigen Ausführungsbeispielenenthalten die erfassten Korrekturbilder Bilder, die zur Offsetkorrektur,Gewinnkorrektur und dead Pixelkorrektur verwendet werden.The correction images are for the imaging device 20 based on the radiation beam in step S802. The correction images can be taken at any time before the radiation therapy, but are usually taken early in the morning, before the radiation therapy is carried out during the day. In some embodiments, the captured correction images include images that are used for offset correction, gain correction, and dead pixel correction.
    [0064] Viele Imaginggeräte, die Strahlung in elektrischerLadung umwandeln, benötigeneine Vorspannung ihrer Abbildungselemente. Diese Vorspannung erzeugteinen kleinen sogenannten Dunkelstrom „dark current", der eine Ladungerzeugen kann, die innerhalb eines Imagingelements angesammelt wird, welcheskeine Beziehung zu der Intensitätder Strahlung aufweist, die von dem Imagingelement empfangen wird.Dieser Dunkelstrom erzeugt folglich Fehler in der berechneten Intensität einesStrahlungsfeldortes, der mit dem Bildpixel in Zusammenhang steht.Many imaging devices that use radiation in electricalConvert cargo, needa bias of their imaging elements. This bias createsa small so-called dark current, which is a chargecan generate, which is accumulated within an imaging element, whichno relation to the intensityof radiation received by the imaging element.This dark current consequently generates errors in the calculated intensity of aRadiation field location, which is related to the image pixel.
    [0065] Die Offsetkorrektur soll die Auswirkungen desDunkelstromes auf erfasste Bilder beseitigen. Die Bilder werdenwährendeiner Zeitperiode der Nichtbestrahlung erfasst, und ein Durchschnittsbild wirdaus den erfassten Einzelbildern berechnet. Das Durchschnittsbildwird zur „Offsetkorrektur" von nachfolgenderfassten Bildern verwendet, wie im folgenden unter Be zugnahme aufSchritt S804 beschrieben. Diese gemittelten Bilder werden vorzugsweisemit der gleichen Rate erfasst, wie die nachfolgend erfassten Bilder,um die Wirkung des Dunkelstroms auf die nachfolgend erfassten Einzelbilder bessernähernzu können.Da das Ausmaß desDunkelstroms in Imaginggerätenvariieren kann, werden die Imaginggeräte oft mit kundenindividuellerSoftware zur Durchführungder Offsetkorrektur verkauft.The offset correction is intended to affect the effects ofEliminate dark current on captured images. The pictures willwhilea period of no irradiation is detected, and an average picture is takencalculated from the captured individual images. The average picturebecomes the "offset correction" from belowcaptured images used as below with reference toStep S804 described. These averaged images are preferredcaptured at the same rate as the images captured below,by the effect of the dark current on the individual images captured belowdraw closerto be able to.Because the extent ofDark current in imaging devicescan vary, the imaging devices are often customizedImplementation softwarethe offset correction sold.
    [0066] Ein gewinnkorrigiertes Bild wirdebenfalls in Schritt S802 erfasst, indem das Imaginggerät 20 mit einemStrahlungsstrahl bestrahlt wird, während kein Objekt zwischender Strahlungsquelle und dem Imaginggerät 20 liegt. Das Gewinnkorrekturbildrepräsentiertfolglich die Empfindlichkeitsdifferenzen und den Gewinn zwischenPixeln des Imaginggeräts 20 undIntensitätsdifferenzeneines Strahlungsfeldes, das von dem Strahlungsstrahl erzeugt wird.Das Gewinnkorrekturbild wird auch verwendet, um nichtfunktionierendePixel des Imagingsgeräts 20 oder „dead" Pixel zu identifizieren.Ein Bild, oder eine Abbildung wird basierend auf den identifizierten „dead" Pixeln erzeugt unddie Abbildung wird zur Neuzuweisung des Werts jedes „dead" Pixels zu einemWert verwendet, der auf Werten benachbarterer Pixel basiert.A profit-corrected image is also captured in step S802 by the imaging device 20 is irradiated with a radiation beam while there is no object between the radiation source and the imaging device 20 lies. Represent the profit correction image thus senses the sensitivity differences and the gain between pixels of the imaging device 20 and intensity differences of a radiation field generated by the radiation beam. The gain correction image is also used to image the non-functioning pixels of the imaging device 20 or identify "dead" pixels. An image or image is created based on the identified "dead" pixels and the image is used to reallocate the value of each "dead" pixel to a value based on values from neighboring pixels.
    [0067] Als nächstes wird in Schritt S803ein erstes Bild eines Strahlungsfeldes, das von dem Strahlungsstrahlerzeugt wird, erfasst. Das Strahlungsfeld weist eine Schnittfläche desStrahlungsstrahls mit den Imagingelementen des Imaginggeräts 20 auf, während Bedingungen,die währenddes Schritts S801 zwischen der Quelle des Strahlungsstrahls und demImaginggeräts 20 existieren,simuliert werden. In einem Fall, bei dem die Abtastionenkammer 90, diein Schritt S801 verwendet wird, beispielsweise ein 10 cm Wassergebildeaufweist, wird währenddes Schritts S803 ein 10 cm Wassergebilde an der gleichen Positionplatziert.Next, a first image of a radiation field generated by the radiation beam is acquired in step S803. The radiation field has an intersection of the radiation beam with the imaging elements of the imaging device 20 on during conditions occurring during step S801 between the source of the radiation beam and the imaging device 20 exist, be simulated. In a case where the scanning ion chamber 90 used in step S801, for example, has a 10 cm water structure, a 10 cm water structure is placed in the same position during step S803.
    [0068] 11 zeigtdas erste Bild, das in Schritt S803 erfasst worden ist. Das Bild 110 spiegeltdie Eigenschaften des Strahlungsstrahls wider, sowie die Empfindlichkeitsdifferenzender Pixel des Imaginggeräts 20 über einerZeile oder Spalte des Imaginggeräts 20.Die eine Zeile oder Spalte kann der Achse entsprechen, die durchdas Profil 100 dargestellt ist. 11 shows the first image acquired in step S803. The picture 110 reflects the properties of the radiation beam, as well as the sensitivity differences of the pixels of the imaging device 20 over a row or column of the imaging device 20 , One row or column can correspond to the axis defined by the profile 100 is shown.
    [0069] Ein korrigiertes Strahlbild wirdin Schritt S804 basierend auf den Korrekturbildern und dem in Schritt S803erfassten ersten Bild bestimmt. Gemäß einigen Ausführungsbeispielenumfasst der Schritt S804 das Verwenden der Korrekturbilder zur Korrekturdes ersten Bildes. Die Pixelin tensitäten, die in dem Offsetbild repräsentiertsind, werden beispielsweise von entsprechenden Pixelintensitäten desersten Bildes subtrahiert. Das Gewinnkorrekturbild wird verwendet,um Intensitätsabweichungenaufgrund der Differenzen der Pixelempfindlichkeiten des Imaginggeräts und aufgrundDifferenzen der Strahlungsintensitäten des Strahlungsfeldes, dasdurch den Strahlungsstrahl erzeugt wird, zu beseitigen. Die „dead" Pixel-Abbildung wirddann verwendet, um Intensitätswertefür nicht funktionsfähige Abbildungselementedes Imagingeräts 20 zuerzeugen.A corrected beam image is determined in step S804 based on the correction images and the first image acquired in step S803. In some embodiments, step S804 includes using the correction images to correct the first image. The pixel intensities represented in the offset image are subtracted from corresponding pixel intensities of the first image, for example. The gain correction image is used to eliminate intensity variations due to differences in the pixel sensitivity of the imaging device and due to differences in the radiation intensities of the radiation field generated by the radiation beam. The "dead" pixel map is then used to determine intensity values for non-functional map elements of the imaging device 20 to create.
    [0070] 12 zeigtein korrigiertes Strahlbild 120 gemäß Ausführungsbeispielen der Erfindung.Das korrigierte Strahlbild 120 repräsentiert ein Strahlungsfeld,das keine Intensitätsabweichungeninnerhalb eines Bereichs, der von Interesse ist, aufweist. 12 shows a corrected beam pattern 120 according to embodiments of the invention. The corrected spray pattern 120 represents a radiation field that has no intensity deviations within an area of interest.
    [0071] In Schritt S805 wird als nächstes einAbbild (im folgenden auch Map oder Abbildung genannt) bestimmt,die die Pixelwerte zwischen dem ersten Profil und dem korrigiertenStrahlbild übersetzt.In einigen Ausführungsbeispielenweist die Abbildung Werte auf, die mit jedem Pixel des korrigiertenStrahlbildes 120 in Zusammenhang stehen. Der Wert, dermit einem bestimmten Pixel in Zusammenhang steht, ist gleich dieDifferenz zwischen der Intensitätdes Pixels in dem ersten Profil 100 und der Intensität des Pixelsin dem korrigierten Strahlbild 120. Andere Abbildungstechniken(mapping) könnenalternativ in Schritt S805 verwendet werden.In step S805, an image (hereinafter also referred to as map) is determined which translates the pixel values between the first profile and the corrected beam image. In some embodiments, the image has values associated with each pixel of the corrected beam image 120 being related. The value associated with a particular pixel is the difference between the intensity of the pixel in the first profile 100 and the intensity of the pixel in the corrected beam image 120 , Other mapping techniques can alternatively be used in step S805.
    [0072] Die Abbildung kann verwendet werden,um Änderungender Eigenschaften des Strahlungsstrahls zu bestimmen. Diesbezüglich wirdein zweites Bild eines zweiten Strahlungsfeldes, das von dem Strahlungsstrahlerzeugt wird, erfasst, indem das Imaginggerät 20 in Schritt S806verwendet wird. Das zweite Bild kann, wie oben in Bezug auf SchrittS803 beschrieben, erfasst werden. 13 zeigtdas zweite Bild 130 eines zweiten Strahlungsfeldes, wiees gemäß Ausführungsbeispielendes Schritts S806 erfasst wurde.The mapping can be used to determine changes in the properties of the radiation beam. In this regard, a second image of a second radiation field generated by the radiation beam is captured by the imaging device 20 is used in step S806. The second image can be captured as described above in relation to step S803. 13 shows the second picture 130 a second radiation field, as was detected in accordance with exemplary embodiments of step S806.
    [0073] Wie in Bezug auf Schritt S804 beschrieben, wirddas zweite korrigierte Strahlbild in Schritt S807 basierend aufden Korrekturbildern und dem zweiten Bild bestimmt. Ein derartigeskorrigiertes Strahlbild ist als Bild 140 in 14 dargestellt. Das Bild 140 unterscheidetsich von dem Bild 120 in 12 durchdie Intensitätsdifferenzen,die in Bild 130 und in Bild 110 dargestellt sind.As described in relation to step S804, the second corrected beam image is determined in step S807 based on the correction images and the second image. Such a corrected beam image is an image 140 in 14 shown. The picture 140 is different from the picture 120 in 12 by the intensity differences that in picture 130 and in picture 110 are shown.
    [0074] Ein zweites Profil wird in SchrittS808 basierend auf dem zweiten korrigierten Stahlbild und der Abbildung,die in Schritt S805 bestimmt wurde, bestimmt. In einigen Ausführungsbeispielenassoziiert die Abbildung einen Wert zu jedem Pixel in dem Bereich,der von Interesse ist. Fürjedes Pixel des zweiten korrigierten Strahlbildes wird der Wert,der mit dem Pixel in Zusammenhang steht, durch die Abbildung demWert des Pixels in dem Bild hinzuaddiert. 15 zeigt ein zweites Profil 150,das in Schritt S808 basierend auf dem Bild 140 und derAbbildung zwischen dem Bild 120 und dem ersten Profil 100 bestimmtwurde. Das zweite Profil 150 unterscheidet sich von dem ersten Profil 100 durchDifferenzen zwischen dem Bild 140 und dem Bild 120.A second profile is determined in step S808 based on the second corrected steel image and the image determined in step S805. In some embodiments, the mapping associates a value with each pixel in the area of interest. For each pixel of the second corrected beam image, the value associated with the pixel is added to the value of the pixel in the image by the mapping. 15 shows a second profile 150 based on the image in step S808 140 and the image between the image 120 and the first profile 100 was determined. The second profile 150 differs from the first profile 100 by differences between the picture 140 and the picture 120 ,
    [0075] Als nächstes wird in Schritt S809der Strahlungsstrahl basierend auf den Differenzen zwischen demersten Strahlprofil und dem zweiten Strahlprofil verifiziert. EinigeAusführungsbeispieledes Schritts S809 umfassen das Bestimmen einer Differenz zwischendem ersten Profil und dem zweiten Profil, und das Bestimmen, obdas zweite Strahlungsfeld innerhalb einer bestimmten Toleranz desersten Strahlungsfeldes von Schritt S803 ist, basierend auf der Differenz.Irgendwelche im Moment bekannten oder später bekannt werdende Systemekönnenverwendet werden, um eine Differenz zwischen dem ersten Profil unddem zweiten Profil zu bestimmen. Beispielsweise können „curve-matching" Algorithmen verwendetwerden, um die quantitative Differenz zwischen dem ersten Profilund dem zweiten Profil zu bestimmen.Next in step S809the radiation beam based on the differences between thefirst beam profile and the second beam profile verified. Someembodimentsof step S809 include determining a difference betweenthe first profile and the second profile, and determining whetherthe second radiation field within a certain tolerance of thefirst radiation field of step S803 is based on the difference.Any systems known at the moment or becoming known latercanused to make a difference between the first profile andto determine the second profile. For example, "curve-matching" algorithms can be usedbe the quantitative difference between the first profileand determine the second profile.
    [0076] Die Schritte S806 bis S809 können täglich oderwöchentlichnach dem Schritt S805 durchgeführtwerden, um zu bestimmen, ob die Eigenschaften des Strahlungsstrahlsvon den Eigenschaften des Strahls, wie er in dem ersten Profil dargestelltist, abweichen. Diese Verifikation kann insbesondere vor der Lieferungeiner therapeutischen Strahlung gemäß einem Therapieplan verwendetwerden, der auf der Grundlage des ersten Profils entwickelt wurde.Steps S806 through S809 may be performed daily or weekly after step S805 to determine whether the property th of the radiation beam deviate from the properties of the beam as shown in the first profile. This verification can be used in particular before the delivery of therapeutic radiation according to a therapy plan that was developed on the basis of the first profile.
    [0077] Fachleuten auf diesem Gebiet istoffensichtlich, dass Änderungenund Modifikationen der oben beschriebenen Ausführungsbeispiele durchgeführt werdenkönnen,ohne den Schutzbereich der Erfindung zu verlassen. Ebenso unterscheidensich einige Ausführungsbeispielevon dem oben Beschriebenen. Beispielsweise enthalten einige Ausführungsbeispieleder Verfahrensschritte 800 nicht die Schritte S802, S804und S807. Gemäß einigendieser Ausführungsbeispielewird das Abbild oder die Abbildung zwischen dem ersten Bild unddem ersten Profil in Schritt S805 bestimmt.It will be apparent to those skilled in the art that changes and modifications to the above-described embodiments can be made without departing from the scope of the invention. Likewise, some embodiments differ from that described above. For example, some exemplary embodiments contain the method steps 800 not steps S802, S804 and S807. According to some of these exemplary embodiments, the image or the image between the first image and the first profile is determined in step S805.
    权利要求:
    Claims (14)
    [1]
    Verfahren mit den Schritten: Erfassen (S302)eines ersten Bildes eines Strahlungsfeldes, wobei das Strahlungsfeldvon einem Strahlungsstrahl erzeugt wird; und Bestimmen (S303)eines zweiten Bildes basierend auf dem ersten Bild und einem Referenzbildeines Referenzstrahlungsfeldes, welches eine im wesentlichen homogeneIntensitätaufweist, wobei das zweite Bild Eigenschaften des Strahlungsstrahlsrepräsentiert.Procedure with the steps:Capture (S302)a first image of a radiation field, the radiation fieldis generated by a radiation beam; andDetermine (S303)a second image based on the first image and a reference imagea reference radiation field, which is essentially homogeneousintensityhas, the second image properties of the radiation beamrepresents.
    [2]
    Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Bestimmungsschritteinen Schritt zum Korrigieren (S804) des ersten Bildes aufweistin Bezug auf Differenzen von Pixelempfindlichkeiten, wobei die Pixelempfindlichkeitsdifferenzendurch das Referenzbild dargestellt sind.The method of claim 1, wherein the determining stepa step of correcting (S804) the first imagewith respect to differences in pixel sensitivities, the pixel sensitivity differencesare represented by the reference image.
    [3]
    Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem der Erfassungsschrittdas Erfassen des ersten Bildes mit einem Imaginggerät (20)aufweist, und das Verfahren ferner den Schritt des Erfassens (S301)des Referenzbildes mit dem Imaginggerät (20) aufweist.Method according to Claim 1 or 2, in which the capturing step comprises capturing the first image with an imaging device ( 20 ), and the method further comprises the step of capturing (S301) the reference image with the imaging device ( 20 ) having.
    [4]
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem das Referenzbildim wesentlichen Pixelempfindlichkeitsdifferenzen des Imaginggeräts repräsentiert,wobei der Bestimmungsschritt ein Korrigieren des ersten Bildes für Pixelempfindlichkeitsdifferenzenaufweist.Method according to one of claims 1 to 3, wherein the reference imageessentially represents pixel sensitivity differences of the imaging device,the determining step correcting the first image for pixel sensitivity differenceshaving.
    [5]
    Medium zum Speichern von prozessorausführbarenVerfahrensschritten, wobei die Verfahrensschritte aufweisen: Erfassen(S302) eines ersten Bildes eines Strahlungsfeldes, wobei das Strahlungsfeldvon einem Strahlungsstrahl erzeugt wird; und Bestimmen (S303)eines zweiten Bildes basierend auf dem ersten Bild und einem Referenzbildeines Referenzstrahlungsbildes, welches eine im wesentlichen homogeneIntensitätaufweist, wobei das zweite Bild Eigenschaften des Strahlungsstrahlsrepräsentiert.Medium for storing processor executableProcess steps, the process steps comprising:To capture(S302) a first image of a radiation field, the radiation fieldis generated by a radiation beam; andDetermine (S303)a second image based on the first image and a reference imagea reference radiation image which is essentially homogeneousintensityhas, the second image properties of the radiation beamrepresents.
    [6]
    Medium nach Anspruch 5, bei dem der Bestimmungsschritteinen Schritt zum Korrigieren (S804) des ersten Bildes in Bezugauf Pixelempfindlichkeitsdifferenzen aufweist, wobei die Pixelempfindlichkeitsdifferenzendurch das Referenzbild repräsentiert sind.The medium of claim 5, wherein the determining stepa step of correcting (S804) the first image with respecton pixel sensitivity differences, the pixel sensitivity differencesare represented by the reference image.
    [7]
    Vorrichtung mit einem Speicher (41),der prozessorausführbareVerfahrensschritte speichert; einem Prozessor (41),der mit dem Speicher in Verbindung steht und in Zusammenhang mitden gespeicherten Verfahrensschritten arbeitet, um ein erstesBild eines Strahlungsfeldes zu erfassen, wobei das Strahlungsfeldvon einem Strahlungsstrahl erzeugt wird; und ein zweites Bildbasierend auf dem ersten Bild und basierend auf einem Referenzbildeines Referenzstrahlungsfeldes zu bestimmen, welches eine im wesentlichenhomogene Intensitätaufweist, wobei das zweite Bild Eigenschaften des Strahlungsstrahlsrepräsentiert.Device with a memory ( 41 ) that stores process executable process steps; a processor ( 41 ), which is connected to the memory and works in conjunction with the stored method steps to acquire a first image of a radiation field, the radiation field being generated by a radiation beam; and determine a second image based on the first image and based on a reference image of a reference radiation field, which has a substantially homogeneous intensity, the second image representing properties of the radiation beam.
    [8]
    Vorrichtung nach Anspruch 7, bei der der Bestimmungsschritteine Korrektur des ersten Bildes bezüglich Pixelempfindlichkeitsdifferenzenaufweist, wobei die Pixelempfindlichkeitsdifferenzen durch das Referenzbildrepräsentiertsind.The apparatus of claim 7, wherein the determining stepa correction of the first image for pixel sensitivity differenceswith the pixel sensitivity differences due to the reference imagerepresentsare.
    [9]
    System mit einem Linearbeschleuniger (10)zum Aussenden eines Strahlungsstrahls; einem Imaginggerät (20)zum Erfassen eines ersten Bildes eines Strahlungsfeldes, das vondem Strahlungsstrahl erzeugt wird; und einem Prozessor (4)zum Bestimmen eines zweiten Bildes, basierend auf dem ersten Bildund basierend auf einem Referenzbild eines Referenzstrahlungsfeldes,welches eine im wesentlichen homogene Intensität aufweist, wobei das zweiteBild Eigenschaften des Strahlungsstrahls repräsentiert.System with a linear accelerator ( 10 ) for emitting a radiation beam; an imaging device ( 20 ) for acquiring a first image of a radiation field generated by the radiation beam; and a processor ( 4 ) for determining a second image, based on the first image and based on a reference image of a reference radiation field, which has a substantially homogeneous intensity, the second image representing properties of the radiation beam.
    [10]
    Verfahren mit den Schritten: Erfassen (S801)eines ersten Profils, welches mit einem Strahlungsstrahl in Zusammenhangsteht, indem eine Strahlungsdetektionsvorrichtung verwendet wird; Erfassen(S803) eines ersten Bildes eines ersten Strahlungsfeldes, das vondem Strahlungsstrahl erzeugt wird, indem eine Abbildungsvorrichtungverwendet wird; Bestimmen (S805) einer Abbildung zwischen dem erstenBild und dem ersten Profil; Erfassen (S806) eines zweiten Bildeseines zweiten Strahlungsfeldes, indem die Abbildungsvorrichtung verwendetwird; und Bestimmen (S808) eines zweiten Profils basierend aufder Abbildung und dem zweiten Bild.A method comprising the steps of: acquiring (S801) a first profile associated with a radiation beam by using a radiation detection device; Acquiring (S803) a first image of a first radiation field generated by the radiation beam using an imaging device; Determining (S805) an image between the first image and the first profile; Capturing (S806) a second image of a second radiation field by the imaging device is used; and determining (S808) a second profile based on the image and the second image.
    [11]
    Verfahren nach Anspruch 10, ferner mit einem Bestimmen(S809) einer Differenz zwischen dem ersten Profil und dem zweitenProfil.The method of claim 10, further comprising determining(S809) a difference between the first profile and the secondProfile.
    [12]
    Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, ferner mit einemBestimmen, dass das zweite Strahlungsfeld innerhalb einer bestimmtenToleranz des ersten Strahlungsfeldes ist, basierend auf der Differenz.The method of claim 10 or 11, further comprisingDetermine that the second radiation field is within a certainTolerance of the first radiation field is based on the difference.
    [13]
    Vorrichtung mit einem Speicher (41),der prozessorausführbareVerfahrensschritte speichert; einem Prozessor (41),der mit dem Speicher in Verbindung steht und in Verbindung mit dengespeicherten Verfahrensschritten arbeitet, zum Erfassen einesersten Profils, das mit einem Strahlungsfeld in Zusammenhang steht,indem eine Strahlungsdetektionsvorrichtung verwendet wird; Erfasseneines ersten Bildes eines ersten Strahlungsfeldes, das von dem Strahlungsstrahlerzeugt wird, indem eine Abbildungsvorrichtung verwendet wird; Bestimmeneiner Abbildung zwischen dem ersten Bild und dem ersten Profil; Erfasseneines zweiten Bildes eines zweiten Strahlungsfeldes, indem die Abbildungsvorrichtungverwendet wird; und Bestimmen eines zweiten Profils basierendauf der Abbildung und dem zweiten Bild:Device with a memory ( 41 ) that stores process executable process steps; a processor ( 41 ) in communication with the memory and operating in conjunction with the stored method steps, for detecting a first profile associated with a radiation field by using a radiation detection device; Capturing a first image of a first radiation field generated by the radiation beam using an imaging device; Determining an image between the first image and the first profile; Capturing a second image of a second radiation field using the imaging device; and determining a second profile based on the image and the second image:
    [14]
    System mit einem Linearbeschleuniger (10),um einen Strahlungsstrahl auszusenden; einer Strahlungsdetektionsvorrichtung(90) zum Erfassen eines ersten Profils, welches mit demStrahlungsstrahl in Zusammenhang steht; einer Abbildungsvorrichtung(20) zum Erfassen eines ersten Bildes eines ersten Strahlungsfeldes,das von dem Strahlungsstrahl erzeugt wird, und zum Erfassen eineszweiten Bildes eines zweiten Strahlungsfeldes; und einem Prozessor(41) zum Bestimmen einer Abbildung zwischen dem erstenBild und dem ersten Profil, und zum Bestimmen eines zweiten Profilsbasierend auf der Abbildung und dem zweiten Bild.System with a linear accelerator ( 10 ) to emit a radiation beam; a radiation detection device ( 90 ) for detecting a first profile which is related to the radiation beam; an imaging device ( 20 ) for capturing a first image of a first radiation field generated by the radiation beam and for capturing a second image of a second radiation field; and a processor ( 41 ) for determining an image between the first image and the first profile, and for determining a second profile based on the image and the second image.
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    US20040158145A1|2004-08-12|
    DE102004006784B4|2007-05-31|
    US7486983B2|2009-02-03|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    2004-09-02| OP8| Request for examination as to paragraph 44 patent law|
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